单晶硅清洗超纯水设备工艺流程介绍
-作 者： 莱特莱德超纯水
-时 间： 2020/2/25 21:51:26
-阅 读：1104
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单晶硅是半导体材料，其性质介于导体和绝缘体之间，是一种具有灰色金属光泽的单质硅。单晶硅清洗超纯水设备的工艺优势明显，下面就为大家介绍一下单晶硅清洗超纯水设备的工艺流程。
单晶硅清洗超纯水设备工艺流程
1、反渗透系统一般包括预处理、主机以及辅助设备，但辅助设备并不是必需的。
2、简单的预处理工艺一般至少包括多介质过滤器、软化或阻垢剂添加设备和精滤。
3、较完全的预处理工艺可以包括絮凝剂添加设备、多介质过滤器、活性碳过滤器、软化或阻垢剂添加设备、热交换器、精滤和PH值调节设备。
4、EDI组件可连续地生产超纯水，电导率高达18.2MΩcm。EDI既可以连续地运行也可以间歇性地运行。
以上就是为大家介绍的单晶硅清洗超纯水设备的工艺流程，希望对大家能够有所帮助。
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