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反渗透阻垢剂
HTW-2000是由美国pure TEC TECHNOLOGY DEVELOPMENT INC公司研制的一种新型、高效的阻垢分散剂，其阻垢原理是当水中初期沉淀晶体生成前，就通过修改其上面的极性键基团来防止其附着结垢，同时在金属离子结合前就将其分散，特别适用于钙、镁、硅、以及致垢盐类含量高的水质，其阻垢效能高且不与残留凝聚剂或富铝富铁的硅化合物发生凝聚形成不溶聚合物。在系统中使用此产品可以降低反渗透（RO）系统的设备投资和运用费用，并可大大延长反渗透膜的使用寿命。