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太阳能、电池硅片清洗机
半自动硅片清洗设备
适用于2〝～8〝基片的半导体清洗工艺，有效去除硅/晶片表面的有机物颗粒﹑金属杂质﹑自然氧化层及石英﹑朔料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面的特性。根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元，各部分有独立控制，随意组合；可根据用户要求配置氮气枪﹑DI水枪﹑恒温水浴﹑热台﹑超声波清洗﹑DI水在线加热装置﹑DI水电导率测试仪等。设备结构紧凑，净化占地面积小，造型美观﹑适用，操作符合人机工程原理。

产品功能
 炉前清洗：过散前清洗。
 光刻后清洗：除去光刻胶。
 氧化前自动清洗：氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。
 抛光后自动清洗：除去切、磨、抛的沾污。
 外延前清洗：除去埋层扩散后的Sio2及表面污物。
 合金前、表面钝化前清洗：除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。
 离子注入后清洗：除去光刻胶，sio2层。
 扩散预淀积后清洗：除去预淀积后时的BSG和PSG.
 CVD后清洗：除去CVD过程中的颗粒。
 附件及工具的清洗：除去表面所有的沾污物。

科伟达（KEEPAHEAD）是一家专业从事超声波精密清洗设备、电镀设备、纯水设备、超声波塑焊机的研发、制造、营销及服务于一体的大型企业。自上世纪90年代中期成立以来，科伟达人秉承“科技领先、创新无限”的企业精神；本着“以人为本、精勤服务、内联外引、创造名牌”的经营理念；凭借领先的技术开发平台及精湛的制造能力；用其博大的胸怀求得与用户、供应商共同成长，是行业中首家分别被深圳市政府、上海市政府认定的高新技术企业。享有“全国消费者质量满意企业”、“全国消费者信得过企业”、“深圳品牌企业”等荣誉证书，是全球首批通过ISO9001：2000版国际质量管理体系认证并具有中国自营进出口权。我公司研制的具有国际性领先科技、享有自主知识产权的碳氢化合物精密清洗设备、TFT、LCD、半导体精密清洗设备，品质精良、性能优越。在2003年11月经中国洗净工程技术合作协会专家组检测认定，荣获首批淘汰“ODS”替代产品推荐企业及荣获“冼净标志”企业。
　　伴随着全球网络经济的到来，科伟达人放眼世界，与日本、美国等多个国家进行技术交流与合作，同时积极参与联合国计划开发署（UNDP）淘汰ODS的活动。2001、2002、2003年连续三年中标联合国资助中国淘汰ODS计划清洗设备的招标项目，同时每年有100多套高品质精密清洗设备出口到美国和日本。科伟达公司系列产品已被国内外用户认可，具备了与国际知名品牌同台竞争的实力。为了进一步拓展市场空间，科伟达建设了以珠江三角洲，长江三角洲、环渤海湾地区三个中国重要经济中心的大规模研发生产基地，其中深圳龙华基地占地面积15000平方米、上海闵行占地面积25000平方米、大北京经济圈廊坊固安科伟达工业园区占地面积60000平方米。 公司现有员工500多名，其中外国专家3名，高级工程师15名，中级工程师80多名，车间员工95%以上中技文化，经过多年不断的拼搏与努力，“科伟达（KEEPAHEAD）”已逐渐成为国际性知名品牌。
　　独特的企业文化，富有朝气、激情的年轻化管理团队，保持领先的研发、制造技术，超前的环保意识为科伟达公司创造了广阔的市场空间，产品源源不断的出口到日本、美国、欧盟、东南亚等发达国家和地区，已成为国内外企业首选的清洗设备。未来的科伟达将全面提升管理质素，通过体制创新、资源整合和人才队伍的不断优化，领先同行业迅速占领工业精密清洗行业高端市场，逐渐将科伟达（KEEPAHEAD）建设成高科技的大型企业集团。