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本公司生产的电子级用纯水设备的应用范围：
1.半导体、单晶硅、集成电路、超大规模集成电路,显象管、触摸屏、液晶显示,高精度线路板,光学、光电类器件,各种电子器件,微电子工业、
IC 芯片封装行业,太阳能硅片清洗、 LCD 清洗等.
2.医药行业用水，生物、生化实验室用水,制药行业,无菌、无热源注射用水、制剂工艺用水，医院血液透析用水、生化分析用水、输液医药用水等。
3.热电厂用水处理、冶金工业用水处理、航天工业、汽车工业等.
4.制取热力、火力、涡轮发电锅炉用水，厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水。
二.本公司符合电子级用超纯去离子水设备工艺流程:
1.传统工艺:
原水(设有压力保护)*增压泵(一用一备)*砂过滤器*炭过滤器*精密过滤器*阳离子树脂交换柱*阴离子树脂交换柱*阴阳离子树脂交换混床*终端精密过滤*UV紫外线杀菌*设备用水（水质可以达到15MΩ.cm以上即0.066μs， ㎝以下,25 ℃）.
2.新工艺一:
原水(设有压力保护)*增压泵(一用一备)*砂过滤器*炭过滤器*软化器(根据地域不同选用)*精密过滤器*中间水箱*RO前水泵*精密过滤器*RO高压泵*RO反渗透系统*RO水箱*RO水增压泵*混床*终端精密过滤*UV紫外线杀菌*设备用水（水质可以达到15MΩ.cm以上即0.066μs， ㎝以下,25 ℃）
3.新工艺二:
原水(设有压力保护)*增压泵(一用一备)*砂过滤器*炭过滤器*软化器(根据地域不同选用)*精密过滤器*中间水箱*RO前水泵*精密过滤器*RO高压泵*RO反渗透系统*RO水箱*RO水增压泵*普通混床*抛光混床*终端精密过滤*UV紫外线杀菌*设备用水（水质可以达到18MΩ.cm以上即0.056μs， ㎝以下,25 ℃）
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